“中国即将引进顶级光刻机？”

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从1998年中国第一部手机科健kch-2000诞生之日起，中国手机已经走过了20多年的2009年，从中国第一部高端智能手机魅族m8算起，中国大陆的高端智能手机也经过了十多年的飞速发展。

在这20多年的时间里，中国手机从一隅之地的边缘性存在成长为世界高端智能手机市场的主流存在。 权威市场调查机构idc发布的《年第三季度全球高端智能手机出货量市场报告》显示，包括华为、小米、vivo、oppo在内的中国高端智能手机企业品牌厂商所占市场份额合计超过45% 换言之，全球20部高端智能手机中有9部来自中国高端智能手机企业品牌。

虽然在市场份额方面取得了初步成功，但在移动操作系统、手机解决方案等方面，国产手机企业的品牌没有做好。 华为在自研解决器的设计方面已经十分成熟，小米在自研解决器的设计上也曾有所表现，但在制作技术上仍依赖台湾积体电路制造、三星等国际芯片巨头。 因为后者依赖于拥有世界一流芯片工艺的光刻机。

当然，中国大陆也没有优秀的芯片大公司。 其中，中芯国际是领导者的存在。 中芯国际是中国内地规模较大、技术先进的集成电路芯片制造公司，其首要业务是根据客户自身或第三方集成电路设计为用户制造集成电路芯片，可提供0.35微米至14纳米的工艺设计和制造服务。

但是，截至今天，中芯国际在12nm工艺技术方面也属于先进的逻辑技术，只在0.35微米至28nm工艺技术方面属于成熟的逻辑技术。 年三季度核心国际收入继续创新，达到1083万美元，环比增长15.3%，同比增长32.6%，毛利为262百万美元，企业应得利润为256百万美元，税收利润折旧和摊销前利润为653百万美元，创历史新高。 预计年收入增长将从24%修正为26%，年毛利率目标高于去年。

但是，要突破现有技术的禁锢，中芯国际必须有自己顶级的光刻机，也就是euv光刻机。 简单说明一下光刻机，光刻机分为euv (极紫外光)光刻机和duv (深紫外光)光刻机。 其中，duv光刻机分为干式分式和浸液式两种，荷兰半导体设备企业阿斯玛( asml )名的浸液式光刻机波长为193nm，等效为134nm，目前可达到7nm工艺，但良品率也难以控制。

euv光刻机使用13.5nm波长的光源，是突破10nm芯片工艺节点不可缺少的工具。 日前，现任中芯国际理事会副理事长、第二类执行理事及战术委员会成员、台湾积体电路制造前coo、前武汉弘芯ceo蒋尚义与荷兰半导体设备企业阿斯玛( asml )就顶级光刻机euv光刻设备进行了谈判，帮助中芯国际缩小与国际芯片巨头的差距，

其实中芯国际引进euv (极紫外光源)光刻机的传言由来已久，2019年初向中芯国际投资1.2亿美元(约8亿人民币)，从阿斯玛( asml )订购euv光刻机，后者计划于2019年初交付中芯国际。 此事被报道后，阿斯玛( asml )方面也做出了正面回应:“对包括中国顾客在内的世界顾客平等，向中国销售euv光刻机并未违反《华纳协定》。”

也就是说，截至2019年初，中芯国际取得了荷兰相关部门允许阿斯玛( asml )销售euv光刻机的出口许可证。 而且，2019年初，阿斯玛( asml )没有按期向中芯国际交付euv光刻机。 这个阿斯玛( asml )的官方表示，企业还在等待新的许可申请的批准。

据最新报道，中芯国际很难从阿斯玛获得euv光刻设备，尽管阿斯玛在法律上没有受到某些限制条件的影响，但人们仍然感到担忧。 关于中芯国际引进euv (极紫外光源)光刻机的事件，目前未被许可发售，到目前为止，阿斯玛( asml )公式也已得到了证实。

阿斯玛( asml )首席财务官roger dassen表示，如果广泛了解监管制度对asml的整体含义(针对特定的中国客户)，asml可以从荷兰向这些中国客户提供duv光刻系统，而不需要出口许可证，但是[//

高端光刻机被称为现代光学工业之花，其制造难度很大，世界上只有少数企业能够制造。 目前，中国能够量产的最先进的光刻机是90nm工艺，由上海微电子(简称smee )生产。 这和荷兰asml生产的7nm光刻机不是一代两代的差别，完全是天壤之别，在整个产业链中我们是低端产品，连中端都算不上。

更重要的是，现在世界上没有国家能够独立完成光刻机的开发和开发，需要结合各国的高端技术。 也许有一天我们会开发自己高端的光刻机，但谁也不知道这一天什么时候会到来。 你对此有什么看法？ 欢迎在评论区发表评论。

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